极紫外光刻
- 网络EUV; Extreme Ultraviolet Lithography; EUVL
极紫外光刻极紫外光刻
EUV
另：纳米压印技术与极紫外光刻(EUV),电子束直写(EBDW)和定向自组装(DSA)并称为下一代芯片光刻技术(NGL)的四大候选人…
Extreme Ultraviolet Lithography
极紫外光刻（Extreme Ultraviolet Lithography），常称作EUV光刻，它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。具 …
EUVL
该晶圆是在使用极紫外光刻（EUVL）的原型设备上蚀刻的。当前用于将越来越多的晶体管填入芯片的工艺称为深度紫外线光刻 …
EVV
...折点，要么是最后一次使用现有模式，要么是第一次使用极紫外光刻(EVV)，并开始转向450毫米晶圆，虽然以色列工厂似乎 …
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